場發射掃描電鏡室主要設備是TESCAN MIRA場發射掃描電鏡（SEM）。實驗室位于明德樓D108。

TESCAN MIRA 是 TESCAN 推出的第四代高性能掃描電子顯微鏡，配置有高亮度肖特基場發射電子槍，在TESCAN 的 Essence™ 操作軟件的同一個窗口中實現了 SEM 成像和實時元素分析。這種結合大大簡化了從樣品中獲取形貌和元素數據的過程，從而使得MIRA 成為質量控制、失效分析和實驗室常規材料檢測的有效分析解決方案。TESCAN MIRA 具有創新的光學設計，确保在需要時可以随時無縫地選擇成像或分析條件，而無需對鏡筒内的任何元件重新進行機械對中；借助完全集成的 Essence™ EDS 軟件，可以快速、輕松地從成像切換到分析操作模式，一鍵即可實現所有設置參數的更改。

技術參數：

二次電子分辨率：1.0nm@30kV,3.5nm@1kV

背散射電子分辨率：2.0nm@30kV

放大倍數：1-1000000

加速電壓：0.2-30kV

EDS能量分辨率：129eV(Mn-Ka)

應用範圍：

表面形貌分析；EDS成分分析；BPMA礦物分析；EBSD取向分析

主要特點：

配備高亮度肖特基場發射電子槍，快速無縫地選擇成像或分析條件，獲得最佳的成像和分析條件；低至1倍的最小放大倍率，可輕松精準的對樣品進行導航；并配備了礦物分析軟件及EDSD取向分析。

主要應用：